多晶硅主要有哪些污垢組成？在生產(chǎn)過程中的油脂、灰塵、水份、氯離子殘留、氧化物等，焊渣、焊藥的主要成分為鈦、錳、鉻、鐵等金屬氧化物，而切削油和防銹油及表面涂層則是一些高分子有機物，這些物質(zhì)可能造成多晶硅反應(yīng)速度減慢，產(chǎn)量降低，甚至硅反應(yīng)停止。而多晶硅的清洗主要工藝為酸洗、脫脂、鈍化、干燥等，在多晶硅設(shè)備的清洗中，主要清洗還原爐、氫化爐、CDI設(shè)備、合成車間、還原氫化車間、精餾系統(tǒng)、中間罐、管道等主要設(shè)備。

　　生產(chǎn)多晶硅的工藝較多，各個國家生產(chǎn)廠家在開發(fā)新技術(shù)、進行技術(shù)改造的同時，通過對設(shè)備的清洗來降低能耗和保證多晶硅的產(chǎn)品質(zhì)量。提高設(shè)備運轉(zhuǎn)率，延長使用壽命，爭取以最低的能耗，生產(chǎn)出更多的多晶硅產(chǎn)品?！?/span>

因此我們推薦超聲波清洗，借助于表面活性劑的潤濕、滲透、乳化、增溶、分散等作用, 使沾污在多晶硅表面的附著力削弱，從而脫離 多晶硅表面，而進人清洗液中被乳化，分散開。

在清洗液中超聲波清洗多晶硅其原理主要是“超聲空化”，超聲波振動在液體中傳播的音波壓強達到一個大氣壓時， 其功率密度為O.35 W/cm, 這時超聲波的音波壓強峰值就可達到真空或負(fù)壓，但實際上無負(fù)壓存在，因此在液體中產(chǎn)生一個很大的壓力，將液體分子拉裂成空洞一空化核，在超聲波壓強反向達到最大時破裂，由于破裂而產(chǎn)生的強烈沖擊將多晶硅表面的污物撞擊下來，而這種由無數(shù)細(xì)小的空化氣泡破裂而產(chǎn)生的沖擊波現(xiàn)象稱為“空化”現(xiàn)象。近年來，無錫雷士超聲波清洗機廠生產(chǎn)的雷士超聲波清洗機，在多家國內(nèi)大中型多晶硅制造廠得到應(yīng)用，效果非常好。

多晶硅設(shè)備主要清洗項目：

　　1、還原爐、氫化爐的清洗脫脂鈍化干燥

　　2、CDI系統(tǒng)設(shè)備的清洗脫脂鈍化干燥

　　3、還原氫化車間設(shè)備的清洗脫脂鈍化干燥

　　4、合成車間設(shè)備的清洗脫脂鈍化干燥

　　5、精餾工序設(shè)備的清洗脫脂鈍化干燥

　　6、中間罐區(qū)的清洗脫脂鈍化干燥

　　7、管道系統(tǒng)的清洗脫脂鈍化干燥