超聲波清洗設備未來的發(fā)展趨勢

1.需求高效經(jīng)濟的清洗專用設備

伴隨著超聲波清洗設備的應用范圍拓展，超聲波清洗設備面對新科技急需創(chuàng)新。針對新技術，新材料，新產(chǎn)品的涌現(xiàn)，設計專用超聲波清洗設備應該具有：優(yōu)異的性價比，與其他清洗方式能高效組合，有一定的自動化程度。

2．發(fā)展超聲波碳氫真空清洗設備

環(huán)境保護是我國的一項基本國策，清洗行業(yè)以前所沿用的ODS有機溶劑被禁止，因此，需要研發(fā)使用非ODS溶劑的新型清洗設備。經(jīng)濟環(huán)保的碳氫溶劑超聲波清洗設備凸顯其優(yōu)越性能。由于碳氫溶劑閃點低，限制了其在超聲波清洗方面的作用。在引入超聲波碳氫真空清洗技術后，不僅達到了安全環(huán)保的目的，而且在真空狀態(tài)下進行超聲波碳氫清洗還強化了潔凈功能，大理發(fā)展碳氫真空清洗已成為今后環(huán)保型超聲波清洗的發(fā)展方向。

3．研發(fā)高頻超聲波清洗設備

目前工業(yè)上大量使用的為低中頻段的超聲波清洗機，也即20~50KHZ頻段，而現(xiàn)在急需研發(fā)0~200KHZ高頻以及兆赫級超聲波清洗設備。

兆赫級超聲波清洗技術有以下的主要優(yōu)點：一是避免對器件表面清洗時帶來損傷，而是更加精準地去除附著在器件表面的亞微米級的污垢。

兆赫級超聲波清洗設備目前已經(jīng)存在，產(chǎn)品主要來自國外，我國研制的兆赫級超聲波清洗設備還未從實驗室走向工程應用。兆赫級超聲波清洗設備主要應用在半導體生產(chǎn)線，用于對100~300mm硅片的清洗，既可以出去硅片表面0.15μm的顆粒，又可以組織漂洗過程中顆粒的重新附著。可見，兆赫級超聲波清洗設備已經(jīng)是大規(guī)模集成電路制造生產(chǎn)過程中必不可少的。

4.開拓超聲波清洗特殊應用

超聲波清洗通常是對零部件的清洗，隨著工藝的不斷完善，出現(xiàn)了一些特殊應用，如超聲波防垢在線清洗等。超聲波防垢清洗主要是利用超聲波強聲場處理流體，使流體中成垢物質(zhì)在超聲場的作用下，其物理形態(tài)和化學性能發(fā)生一系列的變化，使之分散、粉碎、松散、松脫而不易附著管、器壁形成積垢。超聲波強聲場處理流體不僅有防垢的作用，而且能加快液體表面?zhèn)鳠崴俾剩岣咭后w的傳熱效率，這些新應用的出現(xiàn)更大地發(fā)揮了超聲波清洗的功能，近年來，雷士超聲波設備廠在開拓超聲波應用新領域方面做出了極大貢獻。

5.超聲波清洗設備智能化，集成化

隨著工業(yè)產(chǎn)品向微型化、智能化、壽命長、高可靠性發(fā)展，在“互聯(lián)網(wǎng)+制造”的大變局中，超聲波清洗技術也與時俱進，在工業(yè)生產(chǎn)與社會生活的許多方面，都有它活躍的舞臺。將各種新型處理器逐漸應用到超聲波電源中，使整個超聲波系統(tǒng)具有優(yōu)良穩(wěn)定性、可靠性，并可集成多種功能，如頻率跟蹤、故障在線檢測、遠程控制、組網(wǎng)集中控制等。