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硅晶圓超聲波清洗機(jī)概述

時(shí)間:2017-10-14    點(diǎn)擊: 次    來源:網(wǎng)絡(luò)    作者:佚名 - 小 + 大

第一硅芯片的超聲波清洗機(jī)

其次,設(shè)置裝備部署用途:用于半導(dǎo)體晶片外貌洗濯

三,工件參數(shù):

四,設(shè)置裝備部署本領(lǐng):

五,產(chǎn)物的功效,每個(gè)槽上下移動(dòng),在移動(dòng)歷程的污垢徹底封閉。正解的控制面板,可憑據(jù)洗濯工藝。每罐底部集渣口,然后排放和實(shí)時(shí)沉淀污垢。利用全水基環(huán)保洗濯工藝。

六,洗濯?dú)v程:1超聲波洗濯槽和純凈水→車身;2不銹鋼漂洗槽;3真空脫氣超聲波洗濯通道;4聚丙烯儲(chǔ)罐;5真空脫氣超聲波洗濯通道;6超聲波洗濯水箱純凈水。

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