時(shí)間：2017-10-13 點(diǎn)擊： 次 來(lái)源：網(wǎng)絡(luò) 作者：佚名 - 小 + 大
| 超聲波清洗單晶硅片的方法是行業(yè)共知的，主要是將被洗研磨的單硅片，鋪排水平狀放在框架上，然后放到清洗槽底部，框架由支撐腳支撐在清洗槽內(nèi)，必須保證去離子水的高度蓋過(guò)單晶硅片，超聲波電源也即Ultrasonic Generator輸送電源，安裝在超聲波清洗槽底部的超聲波振子將電能轉(zhuǎn)換成機(jī)械能進(jìn)行清洗，超聲波頻率為40KHz，單晶硅硅片黑色污染物不斷被洗出，基本5分鐘將研磨的單晶片翻一個(gè)面，連續(xù)進(jìn)行超聲波清洗，直到干凈為止。原則上單晶硅片應(yīng)平鋪，堆積太多的話由于超聲波穿透力問(wèn)題難以達(dá)到，最上面的一層難以清洗干凈。PP花籃一般用聚四氟材料制成，會(huì)吸附和阻擋一部分超聲波的傳遞,會(huì)造成硅片表面局部區(qū)域清洗不干凈的現(xiàn)象。 |
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